任何事物都具有两重性，同样在了解等离子体GMP清洗机清洗技术的优点的同时，还应了解它的不足，及使用中存在的问题，等离子体GMP清洗机清洗在应用中确实存在一些制约因素，主要表现在以下几点:

    (1)不能用这种方法除去物体表面的切削粉末，这点在清洗金属表面油垢时表现尤为明显。

    (2)实践证明不能用它清除很厚的油垢，虽然用等离子体GMP清洗机清洗少最附着在物体表面的油垢有很好的效果，但对厚油垢的消除效果往往不佳，一方面用它消除厚油膜，必须延长处理时间，使清洗的成本大大提高.另一方面有可能是它在与厚油垢相互接触的过程中，引发了油污分子结构中的不饱和键发生了聚合、偶联等复杂反应而形成较坚硬的树脂化立体网状结构有关。一旦形成这类树脂腆它将很难被清除。因此通常只用等离子体GMP清洗机清洗厚度在几个微米以下的油污。

    (3)在应用过程中还发现不能用等离子体GMP清洗机清洗很好地除去物体表面粘附的指纹，而指纹是玻璃光学元件上常出现的一种污染物。等离子体GMP清洗机清洗也不是完全不能用于除去指纹，但这描要延长处理时间，这时又不得不考虑到它会对基材的性能造成不良的影响。所以还需要采用其他清洗措施进行预处理相配合，结果使清洗工艺过程复杂化。

    (4)由于等离子体GMP清洗机清洗过程需要进行真空处理，而且一般为在线或批量生产，因此在把等离子体GMP清洗机清洗装置引进生产线时，必须考虑到被清洗工件的贮存与移送的问题，特别是当被处理工件体积较大，教量较多时更应考虑到这个问题。

    综上所述可知:等离子体GMP清洗机清洗技术适用于对物体表面的油、水及颗粒等轻度污垢进行清洗，而且利于“速战速决”的在线或批量清洗。