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使用等离子体GMP清洗机清洗时应注意的问题
发布时间:2015-09-06  浏览次数:274人次

任何事物都具有两重性,同样在了解等离子体GMP清洗机清洗技术的优点的同时,还应了解它的不足,及使用中存在的问题,等离子体GMP清洗机清洗在应用中确实存在一些制约因素,主要表现在以下几点:


    (1)不能用这种方法除去物体表面的切削粉末,这点在清洗金属表面油垢时表现尤为明显。


    (2)实践证明不能用它清除很厚的油垢,虽然用等离子体GMP清洗机清洗少最附着在物体表面的油垢有很好的效果,但对厚油垢的消除效果往往不佳,一方面用它消除厚油膜,必须延长处理时间,使清洗的成本大大提高.另一方面有可能是它在与厚油垢相互接触的过程中,引发了油污分子结构中的不饱和键发生了聚合、偶联等复杂反应而形成较坚硬的树脂化立体网状结构有关。一旦形成这类树脂腆它将很难被清除。因此通常只用等离子体GMP清洗机清洗厚度在几个微米以下的油污。


    (3)在应用过程中还发现不能用等离子体GMP清洗机清洗很好地除去物体表面粘附的指纹,而指纹是玻璃光学元件上常出现的一种污染物。等离子体GMP清洗机清洗也不是完全不能用于除去指纹,但这描要延长处理时间,这时又不得不考虑到它会对基材的性能造成不良的影响。所以还需要采用其他清洗措施进行预处理相配合,结果使清洗工艺过程复杂化。


    (4)由于等离子体GMP清洗机清洗过程需要进行真空处理,而且一般为在线或批量生产,因此在把等离子体GMP清洗机清洗装置引进生产线时,必须考虑到被清洗工件的贮存与移送的问题,特别是当被处理工件体积较大,教量较多时更应考虑到这个问题。


    综上所述可知:等离子体GMP清洗机清洗技术适用于对物体表面的油、水及颗粒等轻度污垢进行清洗,而且利于“速战速决”的在线或批量清洗。


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